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采用阶变缓冲层技术 (step-graded) 外延生长了具有更优带隙组合的倒装GaInP/GaAs/In0.3Ga0.7As(1.0 eV) 三结太阳电池材料, TEM和HRXRD测试表明晶格失配度为2%的In0.3Ga0.7As 底电池具有较低的穿透位错密度和较高的晶体质量, 达到太阳电池的制备要求. 通过键合、剥离等工艺制备了太阳电池芯片. 面积为 10.922 cm2 的太阳电池芯片在空间光谱条件下转换效率达到32.64% (AM0, 25 ℃), 比传统晶格匹配的 GaInP/GaAs/Ge(0.67 eV) 三结太阳电池的转换效率提高3个百分点.

关键词:

太阳电池/
三结/
倒装结构

Abstract

High efficiency inverted metamorphic (IMM) GaInP/GaAs/In0.3Ga0.7As(1.0 eV) triple-junction solar cells have been fabricated by growing In0.3Ga0.7As(1.0 eV) sub-cell using step-graded buffer layer, which is 2% lattice mismatch to the GaAs middle cell. The high crystalline quality and low threading dislocation density are confirmed by high resolution X-ray diffraction (HRXRD) and transmission electron microscopy (TEM). The quantum efficiency and I-V characteristic are measured for the IMM GaInP/GaAs/In0.3Ga0.7As solar cells, as well as for the conventional triple-junction solar cell based on Ge substrate (GaInP/GaAs/Ge). The efficiency of the designed cell with an area of 10.922 cm2 is 32.64% (AM0, 25 ℃), which is 3% higher than the conventional GaInP/GaAs/Ge triple junction solar cell.

Keywords:

作者及机构信息

1.

基金项目:国家高技术研究发展计划 (批准号: 2011AA050512) 资助的课题.

Authors and contacts

1.

Funds:Project supported by the National High Technology Research and Development Program of China (Grant No. 2011AA050512).

参考文献

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施引文献

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