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摘要

利用同步辐射光源测量Na2s二次电子部分产额谱得到Na诱导Si（111）3×1结构的近边Ｘ射线吸收精细结构（NEXAFS）谱，并用原子集团多重散射方法对几种可能的模型进行计算，与实验结果比较，认为Na/Si（111）3×1吸附结构与Mnch模型相一致．Na原子吸附在Si的顶位，Na—Si键长为0.3nm．
Abstract
The investigation of the near-edge X-ray absorption fine structure(NEXAFS) of Na-induced Si(111)3×1 surface structure using the secondary electron partial yield method with synchrotron radiation is reported. Comparing the possible absorption models by the multiple-scattering cluster method, we find that the calculated results by using the Mnch model agree with the experiments.The sodium atom is absorbed on the top site with Na—Si bond length 0.3 nm.
作者及机构信息
范朝阳¹,

张训生¹,

唐景昌¹,

隋华¹,

徐亚伯¹,

徐世红²,

潘海斌²,

徐彭寿²

基金项目:国家自然科学基金及浙江省自然科学基金资助的课题.
Authors and contacts
FAN CHAO-YANG¹,

ZHANG XUN-SHENG¹,

TANG JING-CHANG¹,

SUI HUA¹,

XU YA-BO¹,

XU SHI-HONG²,

PAN HAI-BIN²,

XU PENG-SHOU²
参考文献

施引文献

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