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用闪光蒸镀法在77K制备了NdxFe1-x(x=0.06-0.80)非晶薄膜,原位测定了其电阻随温度的变化。结果表明:在0.192和ρ(T)∝T。晶化不是在一个固定的温度,而是在一个温度区间发生。
Abstract
The NdxFe1-x amorphous thin films with x=0.06-0.80 were prepared at 77 K by flash evaporation. The results show that the amorphous films are stable at room temperature when 0.192 and T untill the crystallization occurs. The crystallization of the amorphous films can not be completed at a certain fixed temperature but over a temperature range.
作者及机构信息
吕曼祺¹,

A. WAGENDRISTEL²
Authors and contacts
Lü Man-qi¹,

A. WAGENDRISTEL²
参考文献

施引文献

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