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摘要

用高分辨率沟道背散射技术研究了低能N离子注入单晶硅形成氮化硅的过程。测出了N和位移Si原子的深度分布。提出在N离子注入时同时存在着三个过程——注入、溅射和释放。由此建立了一个微分方程描写样品中剩余N的浓度变化,并讨论了氮化硅形成机制。
Abstract
Low energy ion beam nitridation of silicon has been investigated by high resolution channeling-backscattering technique. The profiles of nitrogen and displaced silicon atoms are obtained, During the bombardment, all the three processes of implanting, sputtering and releasing exist. A differential equation is deduced and the mechanism of formation of silicon nitride is discussed.
作者及机构信息
朱德彰²,

潘浩昌²,

曹建清²,

朱福英²,

陈国明¹,

陈国樑¹,

杨絜¹,

邹世昌¹
Authors and contacts
ZHU DE-ZHANG²,

PAN HAO-CHANG²,

CAO JIAN-QING²,

ZHU FU-YING²,

CHEN GUO-MING¹,

CHEN GUO-LIANG¹,

YANG JIE¹,

ZOU SHI-CHANG¹
参考文献

施引文献

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