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用不同能量的Ar+和H+轰击WO3表面,观察到W4f峰的位移和加宽。通过谱分解处理得到相应于W4f电子的W6+,W4+和W03个不同的双峰。用表面产生氧缺陷的机理解释了还原过程。UPS谱显示出氧缺陷的存在增加了靠近费密能级处的态密度。H2O的吸附结果说明WO3表面的活性与W5+<
Abstract
Shift and broadening of W4f peak were observed in the course of reduction of WO3 during Ar+- and H+-bombarding in different energies. Three different doublets W+6, W+4 and W0 corresponding to W4f electrons were obtained by decomposing the spectrum. The reduction is interpreted by defect states of oxygen. The UPS spectrum shows an increase of the density of states near the Fermi energy.
作者及机构信息
吴述尧²,

陈芸琪²,

齐上雪²,

姜兆学²,

林彰达²,

王志宽¹,

舒代萱¹
Authors and contacts
WU SHU-YAO²,

CHEN YUN-QI²,

QI SHANG-XUE²,

JIANG ZHAO-XUE²,

LIN ZHANG-DA²,

WANG ZHI-KUAN¹,

SHU DAI-XUAN¹
参考文献

施引文献

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