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    李俊霖, 李瑞宾, 丁李利, 陈伟, 刘岩

    TCAD simulation analysis of vertical parasitic effect induced by pulsed γ- ray in NMOS from 180 nm to 40 nm technology nodes

    Li Jun-Lin, Li Rui-Bin, Ding Li-Li, Chen Wei, Liu Yan
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    出版历程
    • 收稿日期:2021-09-10
    • 修回日期:2021-10-12
    • 上网日期:2022-02-14
    • 刊出日期:2022-02-20

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