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摘要
采用磁控溅射法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的［Co8585Cr1515/Pt］2020 多层膜，研究了溅射气压对［Co8585Cr1515/Pt］2020多层膜微结构和磁性的影响.研究结果表明，Ar溅射气压对［Co8585Cr1515/Pt］2020多层膜的微结构、垂直磁各向异性和矫顽力有重要的影响

关键词:
溅射气压/

多层膜/

垂直磁各向异性/

有效磁各向异性常数
Abstract
The ［Co8585Cr1515/Pt］2020 multilayers w ith Pt underlayers were prepared by magnetron sputtering and the effects of sputtering Ar gas pressure on m icrostructure and magnetic properties of ［Co8585Cr1515 /Pt］2020 mul tilayers were studied. The results show that sputtering Ar gas pressure has a gr eat effect on the microstructure, perpendicular magnetic anisotropy and the coer civity of ［Co8585Cr1515/Pt］2020 mul tilayers. For all samples, we have the effective magnetic anisotropy constant K effeff＞0, and all s amples showed perpendicular magnetic anisotropy. With increasing sputtering Ar g as pressure, the perpendicular and in-plane coercivity of the samples increase, but the effective magnetic anisotropy constant decreases. The coercivity of Pt( 20nm)/［(Co8585Cr1515(05nm)/Pt(15nm)］2020 multilayers spu tter-depositied at 16Pa Ar gas pressures is increased to 130kA/m. The Pt( 20nm)/［(Co8585Cr1515(05nm)/Pt(15nm)］ 2020 multilayers display perpendicular magnetic anisotropy and can be used as perpendicular magn etic recording media. The images of atomic force microscopy show that both avera ge grain size and the surface roughness increase with increasing sputtering Ar p ressure, which leads to the enhancement of perpendicular coercivity and the decr ease of effective magnetic anisotropy constant.

Keywords:
sputtering pressure/

multilayers/

perpendicular magnetic anisotropy/

effective magnetic anisotropy constant
作者及机构信息
黄阀³,

李宝河²,

杨涛¹,

翟中海¹,

朱逢吾¹

基金项目:国家自然科学基金（批准号：50301002）和北京市科技新星计划（批准号：H020821290120 ）资助的课题.
Authors and contacts
Hwang Pol³,

Li Bao-He²,

Yang Tao¹,

Zhai Zhong-Hai¹,

Zhu Feng-Wu¹
参考文献

施引文献

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