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摘要

本工作采用时间分辨的OES(Optics Emission Spectroscopy)技术,研究横向激励大气压(TEA)CO2激光诱发的SiH4等离子体内碎片反应动力学过程。实验结果表明,等离子体内某些碎片的发光特征谱线主峰位置明显不同。据此,讨论了各碎片的产生及反应过程。比较各碎片发光的持续时间及综合其它OES结果,我们认为SIH4激光等离子体的最终反应通道为产生Si的通道。
Abstract
The reaction kinetic processes of species produced in a pulsed TEA CO2 laser induced si-lane plasma were studied with the time-resolved OES. It is showed that the time position of main peaks for different fragments' charactristic lines are appreciably different. The reaction kinetic processes are discussed based on the results. By comparing the time evolution of the lines of the fragments and considering the other results of OES, We infer that the final reaction channel of the laser-induced silane plasma is a Si producing channel.
作者及机构信息
傅广生¹,

王金国²,

李晓苇¹,

韩理¹,

吕福润¹

基金项目:国家自然科学基金资助的课题
Authors and contacts
FU GUANG-SHENG¹,

WANG JIN-GUO²,

LI XIAO-WEI¹,

HAN LI¹,

Lü FU-RUN¹
参考文献

施引文献

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